Optische Interferenzfilter zur Optimierung des Kontrasts von Bildwänden für die Aufprojektion.

Im Kommunikationszeitalter haben brillante, fremdlichtstabile, große Displays und dabei insbesondere Projektionsverfahren eine zunehmend größere Bedeutung. Großflächige Displays leiden jedoch in der Regel in hellen Umgebungen aufgrund der signifikanten Remission von störendem Umgebungslicht unter einem begrenztem Kontrast im Bild.
Ein Lösungsansatz besteht in der Beschichtung von Bildwänden mit einem Interferenzfiltersystem zur spektralen Trennung von Fremd- (Transmission) und Nutzlicht (Reflexion). Der Einsatz eines derartigen Filtersystems auf einer Bildwand führt zu zahlreichen Anforderungen an den Filter (Farbflop, Kontrast, Dicke, ...), die bei dessen Auslegung auf konventionellem Wege nicht berücksichtigt werden können.
Die Arbeit stellt einen alternativen Ansatz zur Ermittlung bestmöglicher Filtersysteme unter Nutzung der Farbmetrik in einer hierfür implementierten Software dar, welche zur Optimierung einen erweiterten genetischen Algorithmus (FCEA) verwendet.
Des weiteren werden Ergebnisse von Despositionsexperimenten auf verschiedenen PVD-Anlagen dargestellt, die den reaktiven Magnetron-Sputter-Prozess nutzen. Zur Evaluierung des erforderlichen technologischen Aufwandes wurden sowohl Labor- als auch Industrieanlagen genutzt und dabei verschiedene Despositions-Strategien (mit/ohne InSitu-Ellipsometrie) verwendet.